离子束加工的四种工作方式(1)【◆题库问题◆】：[问答题] 离子束加工的四种工作方式
【◆参考答案◆】：
1、离子束溅射去除加工，即将被加速的离子聚焦成细束，射到被加工表面上。被加工表面受"轰击"后，打出原子或分子，实现分子级去除加工。
2、离子束溅射镀膜加工，即用加速的离子从靶材上打出原子或分子，并将这些原子或分子附着到工件上，形成"镀膜"。又被称为"干式镀"
3、离子束溅射注入加工，即用高能离子（数十万KeV）轰击工件表面，离子打入工件表层，其电荷被中和，并留在工件中（置换原子或填隙原子），从而改变工件材料和性质。
4、离子束曝光，即用在大规模集成电路制作中，与电子束相比有更高的灵敏度和分辨率。
1、离子束溅射去除加工，即将被加速的离子聚焦成细束，射到被加工表面上。被加工表面受"轰击"后，打出原子或分子，实现分子级去除加工。
2、离子束溅射镀膜加工，即用加速的离子从靶材上打出原子或分子，并将这些原子或分子附着到工件上，形成"镀膜"。又被称为"干式镀"
3、离子束溅射注入加工，即用高能离子（数十万KeV）轰击工件表面，离子打入工件表层，其电荷被中和，并留在工件中（置换原子或填隙原子），从而改变工件材料和性质。
4、离子束曝光，即用在大规模集成电路制作中，与电子束相比有更高的灵敏度和分辨率。
(2)【◆题库问题◆】：[问答题] 离子束加工的四种工作方式
【◆参考答案◆】：
1、离子束溅射去除加工，即将被加速的离子聚焦成细束，射到被加工表面上。被加工表面受"轰击"后，打出原子或分子，实现分子级去除加工。
2、离子束溅射镀膜加工，即用加速的离子从靶材上打出原子或分子，并将这些原子或分子附着到工件上，形成"镀膜"。又被称为"干式镀"
3、离子束溅射注入加工，即用高能离子（数十万KeV）轰击工件表面，离子打入工件表层，其电荷被中和，并留在工件中（置换原子或填隙原子），从而改变工件材料和性质。
4、离子束曝光，即用在大规模集成电路制作中，与电子束相比有更高的灵敏度和分辨率。
1、离子束溅射去除加工，即将被加速的离子聚焦成细束，射到被加工表面上。被加工表面受"轰击"后，打出原子或分子，实现分子级去除加工。
2、离子束溅射镀膜加工，即用加速的离子从靶材上打出原子或分子，并将这些原子或分子附着到工件上，形成"镀膜"。又被称为"干式镀"
3、离子束溅射注入加工，即用高能离子（数十万KeV）轰击工件表面，离子打入工件表层，其电荷被中和，并留在工件中（置换原子或填隙原子），从而改变工件材料和性质。
4、离子束曝光，即用在大规模集成电路制作中，与电子束相比有更高的灵敏度和分辨率。
(3)【◆题库问题◆】：[问答题] 离子束加工的四种工作方式
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1、离子束溅射去除加工，即将被加速的离子聚焦成细束，射到被加工表面上。被加工表面受"轰击"后，打出原子或分子，实现分子级去除加工。
2、离子束溅射镀膜加工，即用加速的离子从靶材上打出原子或分子，并将这些原子或分子附着到工件上，形成"镀膜"。又被称为"干式镀"
3、离子束溅射注入加工，即用高能离子（数十万KeV）轰击工件表面，离子打入工件表层，其电荷被中和，并留在工件中（置换原子或填隙原子），从而改变工件材料和性质。
4、离子束曝光，即用在大规模集成电路制作中，与电子束相比有更高的灵敏度和分辨率。
1、离子束溅射去除加工，即将被加速的离子聚焦成细束，射到被加工表面上。被加工表面受"轰击"后，打出原子或分子，实现分子级去除加工。
2、离子束溅射镀膜加工，即用加速的离子从靶材上打出原子或分子，并将这些原子或分子附着到工件上，形成"镀膜"。又被称为"干式镀"
3、离子束溅射注入加工，即用高能离子（数十万KeV）轰击工件表面，离子打入工件表层，其电荷被中和，并留在工件中（置换原子或填隙原子），从而改变工件材料和性质。
4、离子束曝光，即用在大规模集成电路制作中，与电子束相比有更高的灵敏度和分辨率。
(4)【◆题库问题◆】：[问答题] 离子束加工的四种工作方式
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1、离子束溅射去除加工，即将被加速的离子聚焦成细束，射到被加工表面上。被加工表面受"轰击"后，打出原子或分子，实现分子级去除加工。
2、离子束溅射镀膜加工，即用加速的离子从靶材上打出原子或分子，并将这些原子或分子附着到工件上，形成"镀膜"。又被称为"干式镀"
3、离子束溅射注入加工，即用高能离子（数十万KeV）轰击工件表面，离子打入工件表层，其电荷被中和，并留在工件中（置换原子或填隙原子），从而改变工件材料和性质。
4、离子束曝光，即用在大规模集成电路制作中，与电子束相比有更高的灵敏度和分辨率。
1、离子束溅射去除加工，即将被加速的离子聚焦成细束，射到被加工表面上。被加工表面受"轰击"后，打出原子或分子，实现分子级去除加工。
2、离子束溅射镀膜加工，即用加速的离子从靶材上打出原子或分子，并将这些原子或分子附着到工件上，形成"镀膜"。又被称为"干式镀"
3、离子束溅射注入加工，即用高能离子（数十万KeV）轰击工件表面，离子打入工件表层，其电荷被中和，并留在工件中（置换原子或填隙原子），从而改变工件材料和性质。
4、离子束曝光，即用在大规模集成电路制作中，与电子束相比有更高的灵敏度和分辨率。
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1、离子束溅射去除加工，即将被加速的离子聚焦成细束，射到被加工表面上。被加工表面受"轰击"后，打出原子或分子，实现分子级去除加工。
2、离子束溅射镀膜加工，即用加速的离子从靶材上打出原子或分子，并将这些原子或分子附着到工件上，形成"镀膜"。又被称为"干式镀"
3、离子束溅射注入加工，即用高能离子（数十万KeV）轰击工件表面，离子打入工件表层，其电荷被中和，并留在工件中（置换原子或填隙原子），从而改变工件材料和性质。
4、离子束曝光，即用在大规模集成电路制作中，与电子束相比有更高的灵敏度和分辨率。
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2、离子束溅射镀膜加工，即用加速的离子从靶材上打出原子或分子，并将这些原子或分子附着到工件上，形成"镀膜"。又被称为"干式镀"
3、离子束溅射注入加工，即用高能离子（数十万KeV）轰击工件表面，离子打入工件表层，其电荷被中和，并留在工件中（置换原子或填隙原子），从而改变工件材料和性质。
4、离子束曝光，即用在大规模集成电路制作中，与电子束相比有更高的灵敏度和分辨率。
(6)【◆题库问题◆】：[问答题] 离子束加工的四种工作方式
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1、离子束溅射去除加工，即将被加速的离子聚焦成细束，射到被加工表面上。被加工表面受"轰击"后，打出原子或分子，实现分子级去除加工。
2、离子束溅射镀膜加工，即用加速的离子从靶材上打出原子或分子，并将这些原子或分子附着到工件上，形成"镀膜"。又被称为"干式镀"
3、离子束溅射注入加工，即用高能离子（数十万KeV）轰击工件表面，离子打入工件表层，其电荷被中和，并留在工件中（置换原子或填隙原子），从而改变工件材料和性质。
4、离子束曝光，即用在大规模集成电路制作中，与电子束相比有更高的灵敏度和分辨率。
1、离子束溅射去除加工，即将被加速的离子聚焦成细束，射到被加工表面上。被加工表面受"轰击"后，打出原子或分子，实现分子级去除加工。
2、离子束溅射镀膜加工，即用加速的离子从靶材上打出原子或分子，并将这些原子或分子附着到工件上，形成"镀膜"。又被称为"干式镀"
3、离子束溅射注入加工，即用高能离子（数十万KeV）轰击工件表面，离子打入工件表层，其电荷被中和，并留在工件中（置换原子或填隙原子），从而改变工件材料和性质。
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(7)【◆题库问题◆】：[问答题] 离子束加工的四种工作方式
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1、离子束溅射去除加工，即将被加速的离子聚焦成细束，射到被加工表面上。被加工表面受"轰击"后，打出原子或分子，实现分子级去除加工。
2、离子束溅射镀膜加工，即用加速的离子从靶材上打出原子或分子，并将这些原子或分子附着到工件上，形成"镀膜"。又被称为"干式镀"
3、离子束溅射注入加工，即用高能离子（数十万KeV）轰击工件表面，离子打入工件表层，其电荷被中和，并留在工件中（置换原子或填隙原子），从而改变工件材料和性质。
4、离子束曝光，即用在大规模集成电路制作中，与电子束相比有更高的灵敏度和分辨率。
1、离子束溅射去除加工，即将被加速的离子聚焦成细束，射到被加工表面上。被加工表面受"轰击"后，打出原子或分子，实现分子级去除加工。
2、离子束溅射镀膜加工，即用加速的离子从靶材上打出原子或分子，并将这些原子或分子附着到工件上，形成"镀膜"。又被称为"干式镀"
3、离子束溅射注入加工，即用高能离子（数十万KeV）轰击工件表面，离子打入工件表层，其电荷被中和，并留在工件中（置换原子或填隙原子），从而改变工件材料和性质。
4、离子束曝光，即用在大规模集成电路制作中，与电子束相比有更高的灵敏度和分辨率。
(8)【◆题库问题◆】：[问答题] 离子束加工的四种工作方式
【◆参考答案◆】：
1、离子束溅射去除加工，即将被加速的离子聚焦成细束，射到被加工表面上。被加工表面受"轰击"后，打出原子或分子，实现分子级去除加工。
2、离子束溅射镀膜加工，即用加速的离子从靶材上打出原子或分子，并将这些原子或分子附着到工件上，形成"镀膜"。又被称为"干式镀"
3、离子束溅射注入加工，即用高能离子（数十万KeV）轰击工件表面，离子打入工件表层，其电荷被中和，并留在工件中（置换原子或填隙原子），从而改变工件材料和性质。
4、离子束曝光，即用在大规模集成电路制作中，与电子束相比有更高的灵敏度和分辨率。
1、离子束溅射去除加工，即将被加速的离子聚焦成细束，射到被加工表面上。被加工表面受"轰击"后，打出原子或分子，实现分子级去除加工。
2、离子束溅射镀膜加工，即用加速的离子从靶材上打出原子或分子，并将这些原子或分子附着到工件上，形成"镀膜"。又被称为"干式镀"
3、离子束溅射注入加工，即用高能离子（数十万KeV）轰击工件表面，离子打入工件表层，其电荷被中和，并留在工件中（置换原子或填隙原子），从而改变工件材料和性质。
4、离子束曝光，即用在大规模集成电路制作中，与电子束相比有更高的灵敏度和分辨率。
(9)【◆题库问题◆】：[问答题] 离子束加工的四种工作方式
【◆参考答案◆】：
1、离子束溅射去除加工，即将被加速的离子聚焦成细束，射到被加工表面上。被加工表面受"轰击"后，打出原子或分子，实现分子级去除加工。
2、离子束溅射镀膜加工，即用加速的离子从靶材上打出原子或分子，并将这些原子或分子附着到工件上，形成"镀膜"。又被称为"干式镀"
3、离子束溅射注入加工，即用高能离子（数十万KeV）轰击工件表面，离子打入工件表层，其电荷被中和，并留在工件中（置换原子或填隙原子），从而改变工件材料和性质。
4、离子束曝光，即用在大规模集成电路制作中，与电子束相比有更高的灵敏度和分辨率。
1、离子束溅射去除加工，即将被加速的离子聚焦成细束，射到被加工表面上。被加工表面受"轰击"后，打出原子或分子，实现分子级去除加工。
2、离子束溅射镀膜加工，即用加速的离子从靶材上打出原子或分子，并将这些原子或分子附着到工件上，形成"镀膜"。又被称为"干式镀"
3、离子束溅射注入加工，即用高能离子（数十万KeV）轰击工件表面，离子打入工件表层，其电荷被中和，并留在工件中（置换原子或填隙原子），从而改变工件材料和性质。
4、离子束曝光，即用在大规模集成电路制作中，与电子束相比有更高的灵敏度和分辨率。
(10)【◆题库问题◆】：[问答题] 离子束加工的四种工作方式
【◆参考答案◆】：
1、离子束溅射去除加工，即将被加速的离子聚焦成细束，射到被加工表面上。被加工表面受"轰击"后，打出原子或分子，实现分子级去除加工。
2、离子束溅射镀膜加工，即用加速的离子从靶材上打出原子或分子，并将这些原子或分子附着到工件上，形成"镀膜"。又被称为"干式镀"
3、离子束溅射注入加工，即用高能离子（数十万KeV）轰击工件表面，离子打入工件表层，其电荷被中和，并留在工件中（置换原子或填隙原子），从而改变工件材料和性质。
4、离子束曝光，即用在大规模集成电路制作中，与电子束相比有更高的灵敏度和分辨率。
1、离子束溅射去除加工，即将被加速的离子聚焦成细束，射到被加工表面上。被加工表面受"轰击"后，打出原子或分子，实现分子级去除加工。
2、离子束溅射镀膜加工，即用加速的离子从靶材上打出原子或分子，并将这些原子或分子附着到工件上，形成"镀膜"。又被称为"干式镀"
3、离子束溅射注入加工，即用高能离子（数十万KeV）轰击工件表面，离子打入工件表层，其电荷被中和，并留在工件中（置换原子或填隙原子），从而改变工件材料和性质。
4、离子束曝光，即用在大规模集成电路制作中，与电子束相比有更高的灵敏度和分辨率。