精处理阴塔再生时,稀释水流量应控制在()左右。精处理阴塔再生时,稀释水流量应控制在()左右。

习题答案
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精处理阴塔再生时,稀释水流量应控制在()左右。

(1)【◆题库问题◆】:[填空题] 精处理阴塔再生时,稀释水流量应控制在()左右。

【◆参考答案◆】:5.5m³/h

(2)【◆题库问题◆】:[单选] 可用来鉴别1-丁炔和2-丁炔的溶液是()
A.三氯化铁
B.氢氧化钠
C.银氨溶液
D.溴水

【◆参考答案◆】:C

(3)【◆题库问题◆】:[多选] 对停用锅炉可用()进行浸泡。
A.除氧剂的水溶液;
B.氨水溶液;
C.高氯酸的水溶液;
D.醋酸的水溶液。

【◆参考答案◆】:A, B

(4)【◆题库问题◆】:[多选] 在密闭系统中,温度较高时,钢铁氧腐蚀的特征是()。
A.腐蚀坑较大;
B.腐蚀坑较小;
C.腐蚀产物疏松;
D.腐蚀产物较坚硬。

【◆参考答案◆】:B, D

(5)【◆题库问题◆】:[填空题] 阴离子交换树脂受有机物污染后,常用食盐溶液和氢氧化钠溶液进行复苏,效果较()。

【◆参考答案◆】:好

(6)【◆题库问题◆】:[问答题,简答题] 配位掩蔽法使用的掩蔽剂应具备哪些条件?

【◆参考答案◆】:邻苯二甲酸氢钾和草酸晶体。邻苯二甲酸氢钾摩尔质量大,但使用时需干燥;而草酸晶体摩尔质量小,但它在室温空见教材P-144气中干燥即可。

(7)【◆题库问题◆】:[多选] 在()情况下高速混床旁路会自动打开。
A.高混旁路压差>0.30MPa;
B.高混进出口压差>0.20MPa;
C.高混出水钠离子>5ug/L;
D.当高混进水温度>55℃。

【◆参考答案◆】:A, B, D

(8)【◆题库问题◆】:[问答题,简答题] 无密封自控自吸泵不出液的原因有哪些?

【◆参考答案◆】:1、引流量不足;2、吸液端某只法兰、阀门或管路某处大量漏气;3、引流口或放空口拼帽不紧,或拼帽内没有垫圈;4、容器或液池内无液。

(9)【◆题库问题◆】:[判断题] 一种离子选择电极,如pNa玻璃电极,只对Na有响应。()
A.正确
B.错误

【◆参考答案◆】:正确

(10)【◆题库问题◆】:[多选] 下列属于混床再生正洗控制项目是()。
A.进水压力为0.05MPa;
B.流量50~60m3/h;
C.排水Na+≤100ug/l;
D.Si02≤50ug/L。

【◆参考答案◆】:A, B, C

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